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勻膠顯影機

勻膠顯影機

簡要描述:
SC200-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備,它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備(track)的上才可能達(dá)到穩(wěn)定性和均勻性。

更新時間:2023-03-06

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廠商性質(zhì):代理商

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SC200-DE勻膠顯影機介紹   

SC200-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備,它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備(track)的上才可能達(dá)到穩(wěn)定性和均勻性。   不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀;工業(yè)級別400瓦伺服電機系統(tǒng),采用與track設(shè)備相同設(shè)計和程序,使您的工藝更具有實際應(yīng)用意義;同類產(chǎn)品中的zui大達(dá)到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度,確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和*的可重復(fù)性。 主要性能指標(biāo): 主機機箱采用不銹鋼材料(抗化學(xué)腐蝕易清潔) 旋涂程序:zui多可存100組程序,每組100步,每個步驟可精確到0.1秒 轉(zhuǎn)動速度:0-5,000rpm(更高速可選) 旋涂加速度:0-10,000rpm/sec(空載) 馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm 轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm,重復(fù)性< 1rpm 工藝時間設(shè)定: 0-3,000 sec/step,時間設(shè)置精度:0.1sec 支持wafer尺寸1cm-300mm(12“圓晶) 標(biāo)準(zhǔn)配置兩路噴液系統(tǒng)(顯影液和去離子水) 產(chǎn)品特性優(yōu)點: 主機在SC200-SE勻膠機上升級,增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋 全程序編輯功能,更方便的智能化操作,更好的顯影/清洗效果 可實現(xiàn)zui多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作,或進(jìn)行氮氣吹干 控制器可實現(xiàn)程序自動控制噴液或進(jìn)行手動操作,使用更加方便 顯影系統(tǒng)可進(jìn)行噴霧式、柱流式多種選擇,視要求進(jìn)行配置 提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設(shè)計 高可靠性和重復(fù)性,高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選 可添加去邊膠和背膠清洗功能

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